Chrom-Bor Sputtering-Targets - Cr (B)

CrBN – Chrom-Bor-sputtering-target

Chrom-Bor-sputtering targets können von uns in verschiedenen Größen und Zusammensetzungen angeboten werden. Wir sind einer der größten Lieferanten von Chrom-Bor-sputtering targets und haben diese auch immer auf Lager.

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Alles über Chrom-Bor Sputtering-Targets – Cr (B)

CrBN Schichten haben eine große Anwendungsvielfalt in Gebieten wo Verschleiß eine Rolle spielt. Mit dem Zusatz von Bor zu CrN ist es möglich gezielt h-BN und/oder c-BN Kerne zu bilden. Mit der Auswahl der passenden Menge von h-BN/c-BN und CrN können sehr harte Schichten erzeugt werden mit einer sehr niedrigen Oberflächenrauigkeit und überlegender Verschleißfestigkeit. Aus diesem Grund erfreut sich CrB einer großen Beliebtheit.

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Chrom-Bor Sputtering-Targets - Cr (B)

Chrom-Bor Sputtering-Targets – Cr (B) Specifications

Compound FormulaAl/Cr
AppearanceGray
Melting Point 660 °C
Density5.5 g/cm3
Exact Mass89.911 g/mol
Available SizesDia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 6.0″
Thick: 0.125″, 0.250″
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