Sputtering Target

Sputtertargets werden im PVD-Beschichtungsprozess verwendet, um Dünnfilmbeschichtungen zu erzielen. FAST Metallurgy kann eine große Auswahl an Sputter-Targets in verschiedenen Größen und Materialzusammensetzungen anbieten. FAST Metallurgy produziert einen Großteil seiner Sputter-Targets in Deutschland und kann daher unterschiedliche Materialzusammensetzungen in sehr kurzer Zeit bereitstellen. Als Sputter-Target können beliebige Materiallegierungen, Mischungen, Reinmetalle, Oxide, Nitride, Boride, Carbide geliefert werden. Sollten Sie Ihr gewünschtes Sputter-Target nicht auf der Produktseite finden, zögern Sie nicht, uns zu fragen.

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